這兩天試著使用ISE TACD作製程模擬,對只要做implantation及anneal後dopant distribution的我來說,這套軟體簡直是把牛刀。不過念在他是視窗軟體的份上,省去我一些照著manual一字字keyin的困擾的份上,就將就點吧。
不過也因為是圖形介面,內建的變數有限,有些東西還是得自己想辦法外加,這部份我走了不少冤枉路。趁著記憶比較清楚的時候,記下來,供以後參考:
1. 要把SIDIFF=OFF,不然不會算poly的擴散效果。
在ligament command中加一個insert:
dios: replace(control(SiDiff=off))
2. dopant distribution:
# dios xxx.dmp
species->Pactive or Bactive
左上角icon->edit->copy All->To File->存成BMP檔
3. startcad.bat(供genesise主程式用):
cd c:\ise
set LM_LICENSE_FILE=
set display=localhost:0.0
set ISEDB=d:\tmp\simulation\
set TMP=c:\tmp
set TEMP=c:\temp
genesise &
4.cadshell.bat(供dios..之用):
cd c:\ise
set LM_LICENSE_FILE=
set display=localhost:0.0
set ISEDB=d:\tmp\simulation\
set TMP=c:\tmp
set TEMP=c:\temp
你好~~
我是清大電子所的學生~~
我最近也在學習ISE~~
不知道可不可以跟你請教一些問題呢??
相信你應該是對ISE相當熟悉ㄌ~~謝謝 ^^
King:
很不幸地,我對於ISE並不是十分熟悉。
事實上,連「會」都說不上….
不過如果你有問題,我想我們可以一起研究看看….